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爱德华edwards涡轮分子泵STP-XA3203C ISO320F

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爱德华edwards涡轮分子泵STP-XA3203C ISO320F

  • 所属分类:分子泵

  • 点击次数:
  • 发布日期:2017/12/31
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详细介绍

STP Maglev 真空分子涡轮泵 爱德华edwards涡轮分子泵STP-XA3203C ISO320F

为了实现始终如一的可靠性能 和零维护,您每次都可以依赖于 Edwards 的 STP Maglev 涡轮分子泵 来实现。

我们的第一套 STP Maglev 涡轮分子泵于 1983 年售出,现在已经在世界各地 安装了 130,000 多套。其中的 85% 都运行于半导体制程工具中, 表现出了卓越的性能级别和可靠性。  

对于需要长时间正常运行、无碳氢 化合物泵送、维护量少和低振动的应用, STP Maglev 涡轮分子泵是首选泵。转子通过磁力轴承实现完全 悬浮,因此,消除了转子与泵其余部分之间的 所有接触。除振动极低之外,消除接触 还意味着转子旋转时 不会发生轴承接触,也就无需对泵进行后续 维护。 

产品开发的每个设计阶段均 融合了节能技术,以确保降低 能耗和提升运行效率,同时不损害 质量和性能。

  • 提高了生产效率:
    更快抽空到基准压力

  • 体积紧凑: 
    节省空间并且易于安装

  • 低拥有 成本:
    低功耗和水电消耗

  • 免维护: 
    经济 

应用
产品系列
STP 控制器

概述

STP-XA3203C 涡轮泵为高真空到 2300 sccm 制程流的制程范围内提供高性能,并提高所有气体的吞吐量。 

此泵基于新的平台设计,提供各种功能以改善热管理,从而增强在严苛制程中的性能,提高最大制程流能力,并减少腐蚀和沉积的影响。

其出色的性能既适用于温和的应用环境,也适用于严苛的环境,例如半导体刻蚀、注入、光刻和 LCD 制程。

应用

  • 金属(铝)、钨和电介质(氧化物)以及多晶硅等离子刻蚀(氯化物、氟化物和溴化物)

  • 电子回旋共振 (ECR) 刻蚀

  • 薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD

  • 溅射

  • 离子注入源,射束线泵送端点站

  • MBE

  • 扩散

  • 光致抗蚀剂脱模

  • 晶体/晶膜生长

  • 晶片检查

  • 负载锁真空腔

  • 科学仪器:表面分析、质谱分析、电子显微镜

  • 高能物理:射束线、加速器

  • 放射线应用:融合系统、回旋

功能和优势

先进的转子设计  
  • 增强的 H2、N2 和 Ar 性能
  • 改进了在高真空到 2300 sccm 制程压力范围内的性能
  • 免维护
5 轴磁悬浮系统  
  • 无污染
  • 低振动
创新性转矩管理  
  • 获得专利的转矩减少机械装置
优化的温度管理系统  
  • 高温 TMS 能力
  • 低沉积
  • 内置冷却机械装置
  • 更高的气体吞吐量(加热和未加热)
  • 延长寿命
  • 可用于严苛制程
认证  
  • 符合 SEMI®,具有 CE 标记,列于 UL 中

技术数据

入口法兰ISO320F
抽速
  N23200 ls-1
  H22300 ls-1
压缩比
  N2>108
  H2>6 x 103
极限压力10-7 Pa
最大允许前级压力266 Pa
最大允许气体流量
N2(水冷却)2300 sccm

(3.8 Pam3s-1)
Ar(水冷却)1900 sccm

(3.2 Pam3s-1)
额定速度27500 rpm
启动时间8 min
固定位置任何方向
水冷却
流量3 lmin-1
温度5-25 °C (41-77 °F)
压力0.3 MPa
推荐的吹扫气体流量50 sccm

(8.4 x 10-2 Pam3s-1)
输入电压200 至 240 (± 10) V 交流
功耗1.5 kVA
泵重量80 kg (176 lb)
控制器重量12 kg (26.4 lb)


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