多级罗茨泵

清洁和干燥应用的最佳解决方案

普发真空多级罗茨泵为各种应用和市场提供清洁和干燥的真空环境。
例如，小型 ACP 多级罗茨泵在粒子加速器中创建涡轮分子泵所需的前级真空。具有高抽速和低极限压力的大型 ACP 120 泵可用于冷冻干燥应用。A 100、A3P、A4 或 ADH 系列干式泵在半导体和真空镀膜行业中被大量地用作流程泵。所有这些应用都有一个共同点：它们均需要一个洁净、干燥的真空环境。在这类应用方面，多级罗茨泵技术是完美的解决方案。其无摩擦工作泵送模块在转子和定子之间无需润滑剂和密封材料。所以，可以避免烃类的蒸汽回流。在泵的吸入室，不处理任何密封材料。这意味着泵里没有粒子，长期可靠且稳定，长期成本更低。

在洁净制程中使用多级罗茨泵
ACP 系列的气冷式罗茨多级泵很少需要保养，且其仪稳定的性能与众不同。它们可用于分析仪器以及半导体生产和等离子清洗等洁净制程。A 100 L 和 A 200 L 紧凑型罗茨泵体积小易于集成到系统中。半导体和光伏生产系统的装载互锁与传输室是这种类型泵的典型应用领域。ACP 120 系列带有水冷却的罗茨多级泵的泵心是采用真空压铸工艺制成，结构坚固。 就像罗茨真空泵组 ACG 600 一样，它们被用于需要较高抽速的研发、真空镀膜和冶金行业。

侵蚀性的应用不是问题
A3P 系列的多级罗茨泵是为半导体和光伏生产的中段工艺制程应用而开发，在此类应用中，必须传输少量的腐蚀性气体或冷凝物。该泵是紧凑、高能效的。低噪音和低振动水平是该系列的突出特征。A4 系列泵的抽速可高达 1,800 m3/h，是用防腐材料制成的。介质耐受性以及高气体流通量使这些多级罗茨泵成为半导体行业 CVD 工艺应用的最佳解决方案。ADH 系列专门为太阳能、半导体和 LED 市场的苛刻工艺应用而开发，为N2 和 H2 提供 600 至 4,500 m3/h 的高性能抽速。由于具有优异的抗静态和动态内应力能力，所以泵能提供更强的安全性。

ADH 系列

适用于最新工艺应用的新型高性能干式泵

以最低运营成本提供最高 H2 抽速
ADH 系列最大的优势之一是其高氢气抽速，在工艺步骤之间拥有更快排空腔室的能力。结合大流量的设计，这使得 ADH 泵适用于最苛刻的工艺规范。得益于优化的设计，该系列泵在同级泵送性能水平中可提供市场上最佳的功耗。

无中期维护成本
所有轴承均经过了油润滑，不需要现场维护。经过改善的粉尘耐受性、冷凝管理以及待机模式有助于降低运营成本。

对工艺副产物的高耐受性
该系列泵配备双重温度控制的水冷回路和集成的热氮吹扫，以防止粉尘积聚或冷凝。强大的电机可以处理大量粉尘，保证良好的重启能力。ADH 系列采用全新的监控系统进行升级，其功能有助于提高工艺可靠性。

坚固、安全
ADH 系列的设计和材料能够承受极大的静态和动态内部压力应力。这确保在用于运行易爆性气体（如氢气和硅烷）的应用时具有最高水平的安全性。

优势

• 高达 4,500 m3/h 的抽速，在 N2 和 H2 中具有同样的性能。

• 使用 50 和 60 Hz 电源时具有相同的性能。

• 低功率和低耗水量实现企业更低的运营成本

• 粉尘输送能力强

• 得益于润滑的轴承以及对工艺副产物的高耐受性，具有较长的维护间隔

• 由于具有优异的抗静态和动态内应力，从而增强了安全性

应用

• 半导体（ALD、Epitaxy 和 EUV）

• 平板显示器 (FPD)

• 太阳能电池（a-Si 和 μ-Si PECVD）

• LED (MOCVD GaN, AlGaAs, AlGaInP…)